靶材，也称为溅射靶材，是一种用于溅射镀膜过程中的材料。在溅射过程中，高速荷能粒子（如离子）被加速并撞击靶材表面，将靶材表面的原子或分子“剥离”出来，然后这些原子或分子沉积到衬底表面，形成薄膜。靶材的选择和质量对最终形成的薄膜性能有着至关重要的影响。
靶材可以根据不同的分类方法分为多种类型：
按材料种类分类：金属靶、合金靶、陶瓷靶、复合靶等。
按纯度分类：高纯靶材、超高纯靶材等。
靶材通常由“靶坯”和“背板”组成，靶坯由高纯金属制作，是高速离子束流轰击的目标；背板通过焊接工艺与靶坯连接，起到固定靶坯的作用，并且需要具备良好的导热导电性。
靶材的发展趋势包括高溅射率、晶粒晶向控制、大尺寸、高纯金属等。它在微电子、显示器、存储器以及光学镀膜等产业中有广泛应用，用以制备具有特定功能的薄膜材料