同轴光源是一种机器视觉照明技术，其特点如下：
均匀照明：
同轴光源通过漫射板或漫反射板将光线均匀地照射到被测物体上，使得物体表面得到均匀的照明效果。
减少反光干扰：
由于光线与相机镜头光轴平行，被测物体反射的光线也大致与镜头光轴平行，从而减少了反光对图像的影响。
提高准确性和重现性：
同轴光源的均匀照明有助于提高机器视觉系统的准确性和重现性，特别是在检测平滑或反光表面物体时，如金属零件、电子芯片等。
适用场景：
同轴光源适用于检测物体表面的划痕、压印、凹凸点、轮南等缺陷，特别适用于半导体制造、PCB板检测、金属零件表面成像检测等领域。
同轴光源的设计使得它能够凸显物体表面的不平整，克服表面反光造成的干扰，从而在机器视觉系统中发挥重要作用