光刻机是制造集成电路（IC）的核心设备，用于在硅片上制作微小图案，这些图案最终构成电子元件和电路。光刻机的作用主要包括：
图案转移：
通过光源（如紫外光、准分子激光、EUV光等）对涂有光刻胶的硅片进行曝光，使得光刻胶发生性质变化，将掩模版上的图形转移到硅片上。
精度要求：
光刻机的精度决定了所制造芯片的最小特征尺寸，进而影响芯片的性能和集成度。目前，小于5纳米的芯片需要使用EUV光刻机进行生产。
制造复杂电路：
光刻机能够在小小的硅片上“印刷”复杂的电路图，对每个细节的精确控制至关重要，直接关系到芯片的精度和性能。
半导体制造中的关键一环：
光刻工艺技术是半导体制造中最为关键的步骤之一，它决定了芯片的尺寸，而芯片的尺寸又决定了使用该芯片的设备（如手机、电脑）的性能。
应用领域：
光刻机的应用不仅限于集成电路制造，还包括LED制造、微流体控制、光通信等领域。
光刻机技术含量高，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，因此全球只有少数厂家能够生产。中国在高端光刻机制造领域仍存在短板，目前所需的高端光刻机主要依赖进口