石材雕刻的磨光过程主要分为以下几个步骤：
打细
使用齿凿、平凿、石挫等工具进行细致的雕刻，使雕像表面逐渐精细。
打磨
在打细的基础上，根据最终形象所需的艺术效果，使用研磨工具对雕刻进行通体或局部的打磨。常用的工具有抛光机、砂轮、砂纸、抛光膏等。
根据设计者的不同要求，可能还会进行酸蚀、喷沙等表面加工。
组装与修改
如果是分部雕刻，需要先组装起来，对拼组不合适的地方进行修改和再打磨。
清洁与养护
清洗干净石材上的灰尘污渍和粘和残留的胶水等。根据石材的种类和设计要求，上所要求的防护剂或光油，最后再清洁檫拭干净。
抛光方法
机器抛光
将雕件、沙子、水放入抛光桶中，通过24小时转动互相摩擦抛光，反复冲洗，以达到光滑透亮的效果。
人工抛光
使用电动砂轮将石头磨平，经过多次打磨，达到所需的光泽度。过程中可能需要使用不同粗细的砂纸进行逐步精细打磨。
抛光材料
常用的抛光材料包括氧化铬（Cr2O3）、白刚玉（M1.0）、氧化铝（Al2O3）、草酸（COOH2）等。
抛光磨石有树脂抛光块和树脂抛光盘等，通过机械设备快速运转及“干抛光、湿抛光”来达到抛光效果。
抛光原理
微粒研磨原理
磨料颗粒由粗磨到细磨，表面磨削痕迹由粗到细再到无肉眼看到的痕迹，表面逐渐光滑平整细腻。当深度达110微米时，表面出现镜面光泽。
物理化学原理
抛光过程中有“干抛光与湿抛光”两种方式。干抛光通过温度升高使水分蒸发，增强抛光效果；湿抛光则通过加水降温，防止温度过高损坏板面，同时促进物理化学反应，提高光泽度。
抛光流程
粗磨
清除前道工序的锯片痕迹，磨平表面，形成较粗的纹路。
半细磨
清除粗磨痕迹，形成更细的纹路，使表面平整顺滑。
细磨
进一步精细打磨，使花纹、颗粒、颜色清晰显示，表面细腻光滑，开始有微弱光泽度。
精磨
表面无肉眼察觉的痕迹，光泽度约40~50度左右。
抛光
使用专用抛光机和水磨片从粗到细进行研磨，使表面明亮如镜，光泽度达到85度以上。
通过以上步骤和技巧，可以有效地对石材雕刻进行磨光，使其呈现出高艺术感染力和观赏价值。