纽约时装学院（Fashion Institute of Technology, FIT）的研究生申请要求如下：
语言成绩
雅思（IELTS）：6.5
托福（TOEFL）：80
PTE（Pearson Test of English Academic）：53
部分专业可能需要GRE成绩。
申请材料
需要在网上提交成绩单、语言成绩、作品集、个人简历、意向陈述和两封推荐信（一封关于学术，一封关于职业）。可能还会有面试环节。
作品集要求
展览设计：
20个设计作品，包括AutoCAD或Vectorworks草图。
Illustrator、InDesign和Photoshop熟练运用。
3D作品。
提交手工创作和其他软件作品有加分。
摄影、绘画、雕塑或其他媒介作品也可放入作品集。
插画：
提交15-20个作品。
必须包含写生素描。
图片格式为LOW-RES（72像素）。
不符合要求的作品集不会被列入考虑。
不接受幻灯片、原创作品或网站链接。
建议
提前准备：语言成绩和作品集是申请过程中非常重要的部分，建议提前准备并确保所有材料符合学院的要求。
突出个人优势：在个人简历和意向陈述中，突出你的个人优势和与申请专业相关的经验，以增加录取机会。
专业作品集：确保你的作品集能够展示你的专业技能和创意能力，尽量涵盖多种风格和媒介，以体现你的多样性和适应性。
面试准备：如果申请过程中包含面试，提前准备面试常见问题，并展示你的自信和对专业的热情。
希望这些信息对你有所帮助，祝你申请顺利!